Siliciumnitridproducenter analyserer produktkendskab

Siliciumnitrid er et keramisk materiale, der er vigtigt for at skabe holdbare strukturer. Det er et meget solidt stof, der har en naturlig smøring og består af atomer arrangeret som krystaller. Det ruster ikke ved høje temperaturer og kan også modstå ekstreme varme og kolde temperaturer. Det kan opvarmes i luft til en temperatur på mere end 1000 grader og vil ikke bryde, selvom det afkøles hurtigt og genopvarmes. Disse egenskaber gør det nyttigt til at fremstille motordele såsom lejer, turbineblade, mekaniske tætningsringe og forme. Det bruges også til at fremstille opvarmningsoverfladen på nogle motordele, fordi den udfører varme dårligt. Dette forbedrer ydeevnen for dieselmotorer, sparer brændstof og forbedrer termisk effektivitet.

Keramiske materialer i siliciumnitrid er også meget stabile ved høje temperaturer, bryder ikke ned under påvirkning af ilt og kan gøres meget stor og tæt. Siliciumnitrid er en kovalent forbindelse med en stærk binding og kan danne en oxidbeskyttelsesfilm i luft, så det er også meget stabilt kemisk og nedbrydes ikke ved temperaturer under 1200 grader. Den beskyttende film dannet ved 1200 ~ 1600 grad kan forhindre yderligere oxidation. Det reagerer ikke med mange smeltede metaller og legeringer, såsom aluminium, bly, tin, sølv, messing, nikkel osv., Men kan korroderes af smeltede væsker, såsom magnesium, nikkel-kromlegering, rustfrit stål osv.


Komponenter og forseglingselementer i den kemiske industri såvel som i knive og skæreværktøjer i procesindustrien.

Fordi siliciumnitrid kan danne et stærkt binding med siliciumcarbid, aluminiumoxid, thoriumdioxid, bornitrid osv., Kan det bruges som et bindemiddelmateriale og modificeres i forskellige proportioner.


Når PECVD-siliciumnitridfilmen er påført, kan den bruges som en anti-reflekterende film til at reducere lysreflektion. I processen med siliciumnitridfilmaflejring kommer hydrogenatomer ind i siliciumnitridfilmen og på siliciumskiven, der spiller en rolle i passiveringen af ​​defekter. Forholdet mellem atomantallet af siliciumnitrid og silicium er ikke strengt 4: 3, men varierer inden for et bestemt interval afhængigt af forskellige procesbetingelser, og de forskellige forhold svarer til filmens forskellige fysiske egenskaber.