Den relative molekylvægt er 14 0. 28. Grå, hvid eller ikke-hvid. Det er en høj temperatur uopløselig forbindelse uden et smeltepunkt med stærk modstand mod krybning med høj temperatur. Blødgøringspunkt under belastning af reageret-sintret siliciumnitrid uden bindemiddel over 1800 grader; hexagonal system. Krystallen har en hexagonal form. Tætheden af Si3N4 opnået ved reaktionsintring er 1,8 ~ 2,7 g/cm3, og densiteten af Si3N4 opnået ved varm tryk er 3,12 ~ 3,22 g/cm3. MOHS -hårdheden er 9 ~ 9,5, Vickers -hårdheden er omkring 2200, og mikrohardness er 32630 MPa. Smeltningspunktet er meget højt og kan overstige 2000 grader. Specifik varmekapacitet er 0,71 J/(GK).
Formationsvarmen er 751,57 kJ/mol. Termisk ledningsevne er (2-155) w/(MK). Den lineære ekspansionskoefficient er 2,8 ~ 3,2 × 10-6/ grad (20 ~ 1000 grad). Uopløselig i vand. Opløselig i hydrofluorinsyre.
Temperaturen ved hvilken oxidation begynder i luften er 1300 ~ 1400 grad. Volumenstanden er 1,4 × 105 m ved 20 grader og 4 × 108 m ved 500 grader. Elasticitetsmodulet er 28420 ~ 46060MPa. Trykstyrken er 490 MPa (reaktionssintering). Det reagerer med calciumnitrid til dannelse af calciumsilicid ved 1285 grad og reducerer overgangsmetalet ved 600 grader for at frigive nitrogenoxider. Bøjningsstyrken er 147 MPa. Det kan produceres ved opvarmning af siliciumpulver i nitrogen eller ved at reagere siliciumhalogenid med ammoniak. Resistiviteten er 10^{{16}^16ω.cm. Kan bruges som råmateriale til keramik med høj temperatur.