siliciumnitrid-producenter analyserer produktviden

Siliciumnitrid - er et keramisk materiale, der er vigtigt for at skabe holdbare strukturer. Det er et meget hårdt, naturligt smørende stof, der består af atomer arrangeret som krystaller. Den ruster ikke ved høje temperaturer og kan også modstå ekstrem varme og kolde temperaturer. Den kan opvarmes i luft til temperaturer over 1000 grader, og den går ikke i stykker, selvom den hurtigt bliver afkølet og opvarmet igen. Disse egenskaber gør den nyttig til fremstilling af motordele såsom lejer, turbineblade, mekaniske tætningsringe og forme. Det bruges også til at lave varmeoverfladen på nogle motordele, fordi det er en dårlig varmeleder. Dette forbedrer ydelsen af ​​dieselmotorer, sparer brændstof og øger den termiske effektivitet.



Siliciumnitrid keramiske materialer er også meget stabile ved høje temperaturer, nedbrydes ikke, når de udsættes for ilt, og kan gøres meget store og tætte. Siliciumnitrid er en stærkt bundet kovalent forbindelse og kan danne en oxidbeskyttende film i luften, så den er også meget kemisk stabil og nedbrydes ikke ved temperaturer under 1200 grader. Den beskyttende film dannet ved 1200 ~ 1600 grader kan forhindre yderligere oxidation. Det reagerer ikke med mange smeltede metaller og legeringer såsom aluminium, bly, tin, sølv, messing, nikkel osv., men kan blive korroderet af smeltede væsker såsom magnesium, nikkel-kromlegering, rustfrit stål osv.


Keramiske siliciumnitridmaterialer kan bruges i højtemperaturtekniske komponenter, ildfaste materialer i den metallurgiske industri, korrosionsbestandige komponenter og tætningselementer i den kemiske industri og knive og skærende værktøjer i fremstillingsindustrien.

Da siliciumnitrid kan danne stærk binding med siliciumcarbid, aluminiumoxid, thoriumdioxid, bornitrid osv., kan det bruges som bindemiddel og modificeres i forskellige proportioner.


Når først siliciumnitridfilmen er aflejret af PECVD, kan den bruges som en antirefleksfilm for at reducere lysrefleksion. Under siliciumnitridfilmaflejringsprocessen kommer hydrogenatomer ind i siliciumnitridfilmen og på siliciumwaferen, som spiller en rolle i defektpassivering. Forholdet mellem atomnumrene for siliciumnitrid og silicium er her ikke strengt 4:3, men varierer inden for et vist område afhængigt af forskellige procesbetingelser, og forskellige forhold svarer til filmens forskellige fysiske egenskaber.